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徨裏R喘創恬uシステム
紗RY廾崔
?2100barまで紗R辛嬬。
?互RYrの徨Y鉦xはs200μm。
?0≧から-50≧までの絶抜rgは15ms參和。
?Y辛嬬な恷寄創サイズは磯抄6mm。
ク | Leica EM HPM100 |
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旋喘創署劭 | 掲喟M560/rg喟M 2,000/rg |
Y俳システム
?創僕りはステッピングモ`タ`l咫畠僕り楚は200μm參貧、0.1nm゛15μmの譴芭∃)佑蝓
?尅咾里覆ぶ愾β簣揃淑宗
?俳搾さは1nmから15μmであること。
?詰梁俳恬u廾崔は185≧゛15≧の梁業崙囮C、蠑Х赤好皎`ド、クライオ?ウエット隈モ`ド。
?匣悶嶇殆を喘いた絶抜システム。
?グリッドに俳俳頭を函り原けるマイクロマニュピレ`タ`。
?床櫃魍肇させる們C嬬、俳した創をグリッドにNり原ける慧C嬬。
ク | ウルトラミクロト`ム Leica EM UC7i 詰梁俳恬u廾崔 EM FC7 |
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旋喘創署劭 | 掲喟M560/rg 喟M 2,000/rg |
Y崔Q廾崔
?匣悶嶇殆を喘いた絶抜Cで140≧゛70≧の譴敗O協辛嬬。
?創I尖rgは0蛍゛99rg59蛍の譴妊廛蹈哀薀狄苗棔
?揖rI尖創方20。
ク | Leica EM AFS2 |
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旋喘創署劭 | 掲喟M1,000/指 喟M 3,500/指 |
クロスセクションポリッシャ
?Ar┘▲襯乾鵤ガスを喘いたイオンミリングで紗堀Rは1゛6kV辛篆苗棔
?紗垢磯キは400μm、ミリングスピ`ドは100μm/h。
?創サイズは11mm┠×10mmLさ×2mm┷颪毅。
?創卞唸譴錬憬S±3mm、YS±3mm參貧で創A弍は±25°。
ク | 晩云徨 SM-09020CP |
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旋喘創署劭 | 掲喟M1,000/rg 喟M 3,500/rg |
オスミウムコ`タ`
?謹創對彭を譲匯に互業オスミウム署奉瓜弔を侘撹する揖伉叟企O。
?創はφ32mmSEM創岬では6參貧廾野辛嬬。
?對彭坿符瓩淋創が瓮瀬瓸`ジを鞭けない。
ク | メイワフォ`シスNeoc-AN |
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旋喘創署劭 | 掲喟M720/指 喟M 1,000/指 |
ハンディラップ
?徨裏R喘創冩張廾崔
?創をN原ガラスにワックスで耕協し冩張する
?マイクロメ`タ`原き
ク | 晩云徨 HLA-2 |
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旋喘創署劭 | 掲喟M560/rg 喟M 2,000/rg |